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disponible en trois types
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Développeur pour plaque PS
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Concentration
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poudre en liquide = 1:6 (automatique)
poudre en liquide = 1:7 (manuel)
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Temperature de
développement
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21-25 degrés Celsius
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Temps de développement
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25-35
deuxièmecs
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Stockage
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5-30 degree Celsius
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Période de garantie
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18 mois
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Développeur pour plaque CtP thermique
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Temperature de
développement
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23-25bdegrés Celsius
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Temps de développement
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32-35 deuxièmecs
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Reconstitution
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60-100ml/m2
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Stockage
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5-30 degrés Celsius, ventilé
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Période de garantie
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18 mois
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Développeur pour plaque CTcP
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Concentration
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poudre en liquide = 1:4 (automatique)
poudre en liquide = 1:6 (manuel) |
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Temperature de
développement
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23-27 degrés Celsius
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Temps de développement
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25-35
deuxièmecs
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Stockage
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5-30
degrés Celsius
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Période de garantie
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18 mois
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Solution de mouillage |
Pour plaque PS, plaques CTP et la plaque de CTCP
Bon équilibre de l'eau d'encre
Bonne PH tampon |
dilution ratio: 2%-3%
alcohol fill: 8%-10% |
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Gomme pour plaque |
Naturelles gomme arabique et fonctionnelles des matériaux macromoléculaires. Exécution stable |
applicable pour les tôles PS, plaque de CTP et de la plaque CTCP pour les deux manuel et automatique gommage |
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Ravaleur pour plaque |
Advanced matériau fonctionnel macromoléculaires
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applicable pour les tôles PS, plaque de CTP et de la plaque CTCP pour enlever les traînées d'encre, d'écume et de la gomme sur la zone de couverture de la plaque |
Shanghai ICP 06058523
